Очищувальна маска з серії UNSTRESS — це важливий елемент домашнього догляду, який м’яко, але результативно очищає шкіру, сприяє виведенню токсинів і допомагає зберігати оптимальний рівень зволоження.
Її можна використовувати як SOS-засіб, коли потрібно швидко зменшити свербіж, запалення, почервоніння, набряки чи подразнення. Маска сприяє швидшому загоєнню ушкоджень, активізує кровообіг і захисні функції шкіри, а також покращує обмінні процеси.
✦ Маска делікатно очищає шкіру та допомагає підтримувати її зволоження без відчуття сухості.
✦ Швидко заспокоює подразнення, зменшує почервоніння та сприяє відновленню шкіри.
✦ Має антиоксидантну дію, вирівнює тон обличчя та надає свіжий вигляд.
✦ Живить, зміцнює шкіру та підходить для всіх типів, включаючи чутливу.
✦ Екстракт календули — має виражені протимікробні та антисептичні властивості.
✦ Гіалуронат натрію — забезпечує глибоке та тривале зволоження шкіри.
✦ Жирні кислоти омега 3, 6 та 9 — сприяють відновленню ліпідного бар’єра та покращують стан сухої й чутливої шкіри.
✦ Екстракт центелли азіатської — чинить антиоксидантну, тонізуючу та протизапальну дію.
Нанести тонкий шар на шкіру обличчя, шиї та зону декольте, уникаючи області навколо очей. Залишити маску на 10-15 хвилин. Потім обережно змити водою або видалити за допомогою вологої серветки.
Deionized water (Aqua), Cetearyl Ethylhexanoate, Cetyl Alcohol, Glycerin, Glyceryl Stearate, Zinc Oxide, PEG-40 Stearate, Titanium Dioxide, 1,2-Hexanediol, Caprylyl Glycol, Sodium hyaluronate, Calendula Officinalis Flower Extract, Helianthus Annuus (Sunflower) Seed Oil, Stearyl Alcohol, Ethylhexylglycerin, Phenoxyethanol, Camellia Sinensis Leaf Extract, Centella Asiatica Extract, Chamomilla Recutita (Matricaria) Flower, Glycyrrhiza Glabra (Licorice) Root Extract, Propanediol, Rosmarinus Officinalis (Rosemary) Leaf Extract, Scutellaria Baicalensis Root Extract, Polygonum Cuspidatum Root Extract, Butylene Glycol, Glycyrrhiza Glabra (Licorice) Root Extract, Sorbitan Tristearate, Cellulose, Hydroxyethylcellulose, Isopropyl Alcohol, Sodium acetate, Chlorphenesin, CI 77289, Tocopheryl Acetate, Linoic Acid, Linolenic Acid, Oleic Acid, Tocopherol, Allantoin, Caprylyl Glycol, Potassium Sorbate, Thermus Thermophillus Ferment, Anise Alcohol, Benzyl Alcohol, Benzyl Benzoate, Benzyl Salicylate, Butylphenyl Methylpropional, Citral, Farnesol, Geraniol, Isoeugenol, Limonene, Linallol.
| Бренд | Christina |
| Етап догляду | Маска |
| Країна виробництва | Ізраїль |
| Проблема/Потреба | Нерівний тон,Сухість/Зневоднення,Відновлення,Чутливість,Почервоніння |
| Стать | Для жінок |
| Тип продукту | Маска |
| Тип шкіри обличчя | Суха,Нормальна, Комбінована, Жирна |
Очищувальна маска
| Тип продукту | Маска |
-
2220 грн.